反應釜制冷加熱循環(huán)裝置安裝需要注意的問(wèn)題

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置以冷卻劑作為傳熱介質(zhì)，將其他需要冷卻的儀器或設備產(chǎn)生的熱量輸送出去，通過(guò)制冷系統將熱量送到設備外部，確保設備在正常溫度范圍內工作。該裝置和儀表之間依靠裝置內泵的壓力形成閉式介質(zhì)循環(huán)，通過(guò)溫度傳感器檢測介質(zhì)溫度，實(shí)現冷卻器的控制。

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置應安裝在環(huán)境良好的實(shí)驗室內；反應釜制冷加熱循環(huán)裝置應安裝在通風(fēng)良好、無(wú)塵的穩固地面或實(shí)驗臺面上，避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏易燃氣體的地方，避免靠近可產(chǎn)生高頻設備的地方(高頻電焊機等)。

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器(含硫化物等)的情況下，從維護和安裝時(shí)的方便和安全方面考慮，應盡量確保在室內機和障礙物之間有足夠的空間。

　　使用300℃高低溫循環(huán)一體機離不開(kāi)其規范的使用操作，300℃高低溫循環(huán)一體機在銷(xiāo)售時(shí)會(huì )與設備出廠(chǎng)時(shí)相應的300℃高低溫循環(huán)一體機使用說(shuō)明書(shū)相對應，用戶(hù)在使用時(shí)可事先了解下。

　　反應釜制冷加熱循環(huán)裝置廣泛應用于各種實(shí)驗儀器設備，如：旋轉蒸發(fā)儀、X射線(xiàn)衍射儀、ICP發(fā)射光譜儀、ICP質(zhì)譜儀、石墨爐原子吸收光譜儀、熒光分析儀、電子顯微鏡、生產(chǎn)試驗設備、數控機床、激光設備等。該機為一體式設備，冷凝器-壓縮機、蒸發(fā)器-循環(huán)水泵機組均安裝在同一機箱內，此類(lèi)機組一般安裝在室內。

高低溫300℃循環(huán)一體機能實(shí)現200℃高溫、-20℃低溫恒溫測試，為用戶(hù)提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，全量程范圍內的溫度控制，應用于石化、制藥等化學(xué)反應過(guò)程控制，半導體擴散爐擴散過(guò)程控制，在反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應用。