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    thermal熱流儀在芯片可靠性測試中的應用與優(yōu)勢

     更新時(shí)間:2025-03-24 點(diǎn)擊量:495

      thermal 熱流儀在芯片可靠性測試中有著(zhù)一定的應用,能在多種測試場(chǎng)景發(fā)揮作用,同時(shí)具備多項優(yōu)勢,以下是具體介紹:


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      一、芯片可靠性測試的核心挑戰

      隨著(zhù)芯片制程進(jìn)入3nm以下及封裝(如3D IC、Chiplet)技術(shù)的普及,芯片可靠性測試面臨更高要求:

      嚴苛溫度耐受性:芯片需在-55~150℃范圍內穩定工作,且需承受快速溫變帶來(lái)的熱應力。

      局部熱點(diǎn)風(fēng)險:高密度封裝下,功率芯片(如CPU、GPU)的局部溫度易引發(fā)電遷移或熱失效。

      測試效率與成本:傳統溫箱測試周期長(cháng),難以滿(mǎn)足快速迭代需求。

      二、Thermal熱流儀在芯片測試中的核心應用

      1. 溫度循環(huán)測試(Temperature Cycling

      測試目標:驗證芯片在嚴苛溫度交替下的機械穩定性(如焊點(diǎn)疲勞、分層缺陷)。

      技術(shù)方案:熱流儀以50/min速率循環(huán)切換-55~125℃,模擬芯片在汽車(chē)電子或工業(yè)環(huán)境下的壽命。

      2. 高溫老化測試(Burn-in

      測試目標:篩選早期失效芯片,提升量產(chǎn)良率。

      技術(shù)方案:熱流儀在125℃下對芯片施加額定電壓,,加速電遷移與氧化失效。

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      3. 熱阻測試(Thermal Resistance, Rth

      測試目標:量化芯片結溫(Tj)與環(huán)境溫度(Ta)的熱傳導效率。

      技術(shù)方案:熱流儀結合紅外熱像儀與熱電偶,實(shí)時(shí)監測結溫并計算。

      4. 熱沖擊測試(Thermal Shock

      測試目標:驗證芯片在溫變下的抗裂性(如陶瓷封裝、硅通孔TSV結構)。

      技術(shù)方案:熱流儀加熱實(shí)現-75℃→150℃切換,模擬芯片在航天器進(jìn)出大氣層的嚴苛環(huán)境。

      三、Thermal熱流儀的五大技術(shù)優(yōu)勢

      1. 有效性:縮短測試周期

      快速溫變:50/min速率使溫度循環(huán)測試時(shí)間壓縮。

      多通道并行:支持8~16個(gè)芯片同步測試(如Fan-Out封裝),效率提升。

      2. 準確性:數據可靠性保障

      控溫精度:±0.1℃精度(PID+模糊算法)避免溫度波動(dòng)導致的誤判。

      微區監測:紅外熱像儀準確定位熱點(diǎn),誤差1℃。

      3. 多功能性:復雜場(chǎng)景覆蓋

      復合環(huán)境模擬:集成振動(dòng)臺、濕度控制,滿(mǎn)足標準中的多應力耦合測試。

      定制化編程:支持階梯升溫、駐留時(shí)間動(dòng)態(tài)調整等復雜測試腳本。

    Thermal熱流儀通過(guò)有效溫控、準確數據,成為芯片可靠性測試的核心工具,其優(yōu)勢不僅體現在縮短研發(fā)周期與提升良率上,更在于推動(dòng)芯片技術(shù)向更高密度、更復雜場(chǎng)景的突破。


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