冠亞恒溫半導體溫控Chiller助力半導體材料產(chǎn)業(yè)穩定生產(chǎn)

　　在半導體制造領(lǐng)域，溫度控制的精度和穩定性對芯片性能以及生產(chǎn)良率有著(zhù)直接影響。然而，傳統溫控設備存在能耗較高、精度相對不足以及穩定性欠佳等問(wèn)題，這些問(wèn)題已然成為制約半導體材料有效生產(chǎn)的關(guān)鍵因素。

　　一、半導體行業(yè)行業(yè)挑戰

　　一方面，控溫精度不足，在低溫工況下易出現溫度回升現象，可能導致光刻膠形變或研磨液性能波動(dòng)，進(jìn)而影響工藝一致性；

　　另一方面，效率低下，能耗較高，且由于控溫精度不足，可能導致原料浪費與生產(chǎn)成本增加。這些問(wèn)題已然成為制約半導體材料有效生產(chǎn)的關(guān)鍵因素。

　　冠亞恒溫聚焦半導體行業(yè)的控溫需求，憑借其高精度的溫控解決方案以及創(chuàng )新技術(shù)優(yōu)勢，幫助企業(yè)達成更有效、更穩定的生產(chǎn)目標。

　　二、半導體行業(yè)控溫解決方案

　　半導體溫控設備Chiller適用于集成電路、半導體顯示等行業(yè)，溫控設備可在工藝制程中準確控制反應腔室溫度，是一種用于半導體制造過(guò)程中對設備或工藝進(jìn)行冷卻的裝置，其工作原理是利用制冷循環(huán)和熱交換原理，通過(guò)控制循環(huán)液的溫度、流量和壓力，帶走半導體工藝設備產(chǎn)生的熱量，從而實(shí)現準確的溫度控制，確保半導體制造過(guò)程的穩定性和產(chǎn)品質(zhì)量。

　　三、半導體溫控Chiller核心產(chǎn)品

　　FLTZ變頻單通道Chiller

　　?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等

　　?溫度范圍：-100℃~+90℃，控溫精度±0.05℃

　　?技術(shù)亮點(diǎn)：變頻泵可調整循環(huán)液壓?、流量；智能變頻節能控制，降低使用能耗；?持?標定制，?持PC遠程控制

　　FLTZ系列雙通道Chiller

　　?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等

　　?控溫范圍：-45℃~+90℃，控溫精度：±0.1℃

　　?技術(shù)亮點(diǎn)：系統支持雙通道獨立控制溫度、流量壓力；采用變頻控溫技術(shù)，可根據客戶(hù)需求定制產(chǎn)品

　　FLTZ變頻三通道Chiller

　　?介紹應用：應?于光刻、刻蝕、薄膜沉積、探針臺等

　　?控溫范圍：-20℃～+100℃，控溫精度：±0.1℃

　　?技術(shù)亮點(diǎn)：三通道整合，支持每個(gè)通道獨立控溫范圍、導熱介質(zhì)流量；深化性能開(kāi)發(fā)，匹配刻蝕工藝需求

　　面板Chiller

　　?介紹應用：應?于刻蝕、蒸鍍、鍍膜?藝等

　　?控溫范圍：+15~+30℃，控溫精度±0.05℃

　　?技術(shù)亮點(diǎn)：高揚程設計?持?流量?負載，確保嚴苛?況下持續穩定運?；智能變頻節能控制，減少?效能耗；符合三通道?藝設計要求，確保信號/流體的獨?傳輸與準確控制

　　ETCU換熱控溫單元

　　?介紹應用：應用于PVD、CVD、PECVD、ALD?藝等

　　?冷卻?溫度范圍：+5℃~+90℃，控溫精度±0.05℃

　　?技術(shù)亮點(diǎn)：系統?壓縮機，通過(guò)換熱降溫；?持?標定制，?持PC遠程控制

　　四、為什么選擇冠亞恒溫？

　　1、深耕半導體領(lǐng)域：服務(wù)半導體后道生產(chǎn)流程工藝中，覆蓋半導體FAB工藝過(guò)程控溫、半導體封測工藝過(guò)程控溫。

2、定制化服務(wù)能力：依托模塊化平臺，提供標準化與個(gè)性化結合的解決方案。

　　五、冠亞恒溫半導體溫控Chiller溫控系統技術(shù)優(yōu)勢

　　1、變頻技術(shù)與節能：采用變頻技術(shù)，結合精心設計的系統結構和自主開(kāi)發(fā)的控制算法，能夠準確調節壓縮機的輸出頻率。在滿(mǎn)足制程需求的前提下，降低能耗，為企業(yè)節省運營(yíng)成本。

　　2、全密閉式系統：采用全密閉設計，有效杜絕油霧和異味產(chǎn)生，延長(cháng)導熱液體的使用壽命。

　　3、快速加熱與制冷：參與循環(huán)的導熱液體量少，使得加熱和制冷速度大幅提升。響應速度快，能夠及時(shí)適應工藝過(guò)程中的溫度調整需求。

　　4、模塊化設計：系統結構緊湊，占地面積小，安裝和移動(dòng)都十分便捷。這種設計使得設備能夠靈活適應不同的生產(chǎn)場(chǎng)地和工藝布局，為企業(yè)節省空間和安裝成本。

　　5、智能監控與診斷：可同時(shí)監控、設定和控制流量、泵壓、溫度等參數，實(shí)時(shí)顯示運行狀態(tài)。設備具備故障自動(dòng)診斷功能，并擁有多項報警保護功能，能夠提前預警潛在問(wèn)題，保障生產(chǎn)的連續性和穩定性。

　　6、控制重復性與穩定性：基于動(dòng)態(tài)控制系統，確保每次控制結果的一致性，有效提升生產(chǎn)穩定性。

　　7、自適應PID控制：采用自適應PID算法，能夠自動(dòng)適應不同的環(huán)境和負載條件，無(wú)需人工調整參數，這大大降低了操作難度和維護成本，提高了設備的智能化水平。

溫度控制是半導體制造過(guò)程中一項重要的工藝環(huán)節。冠亞恒溫半導體溫控Chiller憑借技術(shù)創(chuàng )新作為發(fā)展動(dòng)力，通過(guò)提供準確、穩定且有效的溫控系統，協(xié)助企業(yè)優(yōu)化生產(chǎn)流程，降低資源消耗，推動(dòng)企業(yè)實(shí)現高質(zhì)量的制造生產(chǎn)。