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    反應釜加熱冷卻裝置主要用途

    簡要描述:制冷加熱循環一體機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。反應釜加熱冷卻裝置主要用途

    • 產品型號:SUNDI-575
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-01-11
    • 訪  問  量:788
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間5萬-10萬
    產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,生物產業,石油,航空航天

    <strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

    <strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

    <strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

    反應釜加熱冷卻裝置主要用途

     

      反應釜加熱冷卻裝置適合用于高純度金屬、稀有物質提純、試驗室環境模擬、磁控濺射、真空鍍膜等行業,大型低溫泵機組可以為噸位級珍貴實驗室儀器提供降溫環境。反應釜加熱冷卻裝置是采取機械形式來制冷的低溫液體循環設備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。

      結合旋轉蒸發器、真空冷凍干燥箱、循環水式多用真空泵、磁力攪拌器等儀器,進行多功能低溫下的化學反應作業及藥物儲存。反應釜加熱冷卻裝置可與多種儀器配套使用,制冷量大,制冷速度快,能耗低,大大地提高了工作效率;反應釜加熱冷卻裝置的流量可調亦可定制,根據用戶要求在低溫與制冷量,低溫與容器量之間合理搭配??梢詽M足不同用戶的實際需要。

      反應釜加熱冷卻裝置主要用途

      1、能對雙層玻璃反應釜、不銹鋼反應釜、旋轉蒸發儀等儀器設備提供超低溫低溫恒溫循環液。

      2、對玻璃容器和玻璃反應裝置提供恒溫實驗場所。

      3、石油化工、生物制藥、食品等行業應用提供恒溫實驗場源。

      4、能對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制。

      5、能對工業用機械裝置的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。

      選購反應釜加熱冷卻裝置要注意的幾點:

      1、根據所需冷卻液體積來選擇循環泵型號,當然,容量越大價、溫度越低,價格也就越高。

      2、根據實驗需要溫度不同,選用相應溫控范圍的低溫泵。溫度越低,泵的價格越高,無錫冠亞反應釜加熱冷卻裝置低溫可達-120℃。

    3、實驗溶液否有腐蝕性,如果是強酸/堿類型溶液則需要選購耐腐蝕的反應釜加熱冷卻裝置。

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