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    全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置

    簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置 應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產(chǎn)品型號:WTD-255-2T
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2024-10-21
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:91
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價(jià)格區間10萬(wàn)-20萬(wàn)
    產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

    全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置


    無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質(zhì)溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無(wú)模型自建樹(shù)算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

    導熱介質(zhì)溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線(xiàn)顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過(guò)載保護;高壓壓力開(kāi)關(guān),過(guò)載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統

    整個(gè)系統為全密閉系統,高溫時(shí)不會(huì )有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會(huì )因為高溫使壓力上升,低溫自動(dòng)補充導熱介質(zhì)。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風(fēng))cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風(fēng)) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風(fēng)冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


     

     

      

      反應釜加熱控溫機作為化工、制藥等行業(yè)中常用的設備,正確使用和維護對保證生產(chǎn)安全、提高產(chǎn)品質(zhì)量。全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置

      一、設備組成與工作原理

      反應釜加熱控溫機主要由制冷系統、加熱系統和控制系統三部分組成。制冷系統通過(guò)壓縮機、冷凝器等部件實(shí)現制冷功能,降低物料溫度;加熱系統則通過(guò)電熱器、循環(huán)泵等部件實(shí)現加熱功能,提升物料溫度??刂葡到y則根據設定的溫度值,自動(dòng)調節制冷和加熱系統的運行,以保持反應釜內物料的恒溫狀態(tài)。全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置

      二、使用前的準備

      確保設備外觀(guān)無(wú)損壞,各部件連接緊密,無(wú)松動(dòng)或泄漏現象。檢查電源電壓穩定,符合設備要求,并接好電源線(xiàn)。根據設備要求,選擇合適的導熱油或其他介質(zhì)作為傳熱介質(zhì),并確保介質(zhì)干凈、無(wú)雜質(zhì)。確保輔助設施已準備就緒,并檢查設備各部位是否有異常。

      三、使用中的注意事項

      1、設定溫度:在設備顯示屏上設定所需的溫度范圍,溫度設定應在合理范圍內,避免過(guò)高或過(guò)低導致設備損壞。

      2、觀(guān)察加熱狀態(tài):在加熱過(guò)程中,要根據反應釜的熱處理要求,設定好加熱區域和加熱時(shí)間,并隨時(shí)觀(guān)察加熱狀態(tài),及時(shí)調整反應釜的溫度。

      3、定期檢查:定期檢查制冷加熱控溫系統的壓力、溫度、液位等各項參數,確保其在正常范圍內。同時(shí),檢查制冷劑、導熱油等流體管道是否有泄漏或堵塞現象,電氣線(xiàn)路是否老化或破損,及時(shí)修理或更換。

      4、控溫精度:在進(jìn)行控溫處理時(shí),應定期檢查溫度傳感器的精度和靈活度,以保證溫度控制的準確性。 


    全密閉高低溫循環(huán)裝置 加熱恒溫裝置









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