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簡(jiǎn)要描述：【無(wú)錫冠亞】原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環(huán)裝置 ,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。
產(chǎn)品型號：SUNDIZ4-5W廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2025-01-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：407| 品牌 | 冠亞制冷 | 價(jià)格區間 | 10萬(wàn)-20萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合 |
無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質(zhì)溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統 | 前饋PID ,無(wú)模型自建樹(shù)算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點(diǎn)溫度 | ||||||||||||
導熱介質(zhì)溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線(xiàn)顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過(guò)載保護；高壓壓力開(kāi)關(guān)，過(guò)載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環(huán)系統 | 整個(gè)系統為全密閉系統，高溫時(shí)不會(huì )有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會(huì )因為高溫使壓力上升，低溫自動(dòng)補充導熱介質(zhì)。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風(fēng)）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風(fēng)) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風(fēng)冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環(huán)裝置
原料藥工藝流程溫控系統 加熱冷卻循環(huán)裝置
Chiller，即冷卻裝置或冷水機，是一種通過(guò)制冷劑循環(huán)來(lái)降低環(huán)境溫度的設備，在工業(yè)生產(chǎn)中，Chiller因其多種特點(diǎn)，被廣泛應用于多個(gè)領(lǐng)域，包括電子、制藥、化工、醫藥以及半導體等。
濃縮是工業(yè)生產(chǎn)中的環(huán)節之一，它通過(guò)將溶液中的溶劑部分去除，從而提高溶液中溶質(zhì)的濃度。在濃縮過(guò)程中，離不開(kāi)溫度的控制。如果溫度過(guò)高，可能會(huì )導致溶質(zhì)變性；而如果溫度過(guò)低，則可能降低濃縮效率。因此，濃縮過(guò)程需要控制溫度的參與。
Chiller正是配套溫度控制。通過(guò)制冷劑的循環(huán)流動(dòng)，將熱量從需要冷卻的介質(zhì)中帶走，并排放到環(huán)境中，從而實(shí)現溫度的控制。在濃縮過(guò)程中，Chiller可以將溶液的溫度控制在一定范圍內，從而確保濃縮過(guò)程的順利進(jìn)行。
具體來(lái)說(shuō)，Chiller在濃縮中的應用主要體現在以下幾個(gè)方面：
1、Chiller可以通過(guò)調節制冷劑的流量和壓力，控制溶液的溫度。這種溫度控制有助于防止溶質(zhì)在濃縮過(guò)程中發(fā)生變性，從而確保產(chǎn)品的質(zhì)量。
2、在濃縮過(guò)程中，適當的溫度可以加速溶劑的蒸發(fā)，從而提升濃縮效率。Chiller可以根據實(shí)際需要，將溶液的溫度調節到適當狀態(tài)，從而加速溶劑的蒸發(fā)，縮短濃縮時(shí)間。
3、Chiller可以根據不同的濃縮需求和工藝條件進(jìn)行定制和優(yōu)化，適用于各種規模的濃縮系統。這使得Chiller在濃縮領(lǐng)域具有廣泛的應用。
除了以上幾點(diǎn)外，Chiller在濃縮過(guò)程中還可以與其他設備配合使用，如蒸發(fā)器、冷凝器等，共同構成一個(gè)完整的濃縮系統。這種系統可以實(shí)現對溶液溫度、壓力、流量等多個(gè)參數的控制，從而提升濃縮過(guò)程的自動(dòng)化程度。
Chiller在濃縮過(guò)程中可以控制溶液的溫度，提升濃縮效率，還可以實(shí)現廣泛的應用。隨著(zhù)科技和工業(yè)生產(chǎn)的不斷發(fā)展，Chiller在濃縮領(lǐng)域的應用將會(huì )越來(lái)越廣泛。
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