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    反應釜自動(dòng)化控制系統-高低溫循環(huán)系統

    簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】反應釜自動(dòng)化控制系統-高低溫循環(huán)系統,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產(chǎn)品型號:SUNDI-2A15W
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2025-05-08
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:150
    詳情介紹
    品牌冠亞恒溫價(jià)格區間10萬(wàn)-20萬(wàn)
    產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合

    反應釜自動(dòng)化控制系統-高低溫循環(huán)系統


    無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質(zhì)溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無(wú)模型自建樹(shù)算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

    導熱介質(zhì)溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線(xiàn)顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過(guò)載保護;高壓壓力開(kāi)關(guān),過(guò)載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統

    整個(gè)系統為全密閉系統,高溫時(shí)不會(huì )有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會(huì )因為高溫使壓力上升,低溫自動(dòng)補充導熱介質(zhì)。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風(fēng))cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風(fēng)) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風(fēng)冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


    反應釜自動(dòng)化控制系統-高低溫循環(huán)系統

    反應釜自動(dòng)化控制系統-高低溫循環(huán)系統

     

      

      冷熱循環(huán)裝置憑借其集成加熱與制冷功能的設計,在化學(xué)反應過(guò)程的快速冷卻中展現出顯著(zhù)技術(shù)優(yōu)勢。以下從關(guān)鍵應用場(chǎng)景、技術(shù)實(shí)現路徑及行業(yè)案例三方面展開(kāi)分析:

      一、冷熱循環(huán)裝置快速冷卻的核心應用場(chǎng)景

      1、放熱反應緊急控溫

      在聚合反應或硝化反應中,冷熱循環(huán)裝置通過(guò)動(dòng)態(tài)溫控技術(shù)(PID+模糊控制算法)實(shí)現±0.5℃波動(dòng),防止副反應導致產(chǎn)物交聯(lián)度超標。

      2、結晶工藝優(yōu)化

      制藥領(lǐng)域的抗生素結晶需梯度降溫,冷熱循環(huán)裝置通過(guò)程序化控溫模塊準確控制晶核形成速度。

      3、微通道反應器配套

      在連續流化學(xué)合成中,冷熱循環(huán)裝置配合板式換熱器,實(shí)現熱交換,反應收率提升。

      4、工藝安全防護

      鋰電池電解液生產(chǎn)過(guò)程中,通過(guò)-30℃低溫冷卻系統,將反應釜夾套溫度穩定在-10±1℃,避免局部過(guò)熱引發(fā)分解爆炸。

      二、冷熱循環(huán)裝置的關(guān)鍵技術(shù)突破

      多區獨立控溫:每組配置獨立PID控制器,通過(guò)動(dòng)態(tài)熱流分配算法將溫差控制在±0.5℃以?xún)取?/span>

      冷熱媒協(xié)同循環(huán):采用乙二醇水溶液(-20~150℃)與硅油(-80~300℃)雙介質(zhì)循環(huán)系統,適應寬域溫度需求。

      設備選型:可選配CT4,BT4。

      三、冷熱循環(huán)裝置典型工業(yè)場(chǎng)景與工藝優(yōu)化

      聚合反應放熱控制:生產(chǎn)中采用冷熱循環(huán)裝置,通過(guò)梯度降溫程序配合冷阱捕集揮發(fā)物,使催化劑活性提升,產(chǎn)品分子量分布。

      生物發(fā)酵溫度維持:發(fā)酵罐控溫中,采用雙層夾套+循環(huán)水冷系統,將溫度波動(dòng)降低。

      風(fēng)險防控:設置三級超溫保護,確保工況下安全停機。

      結晶工藝放大:某原料藥結晶放大中,通過(guò)程序控溫結合超聲輔助成核,使晶型一致性從提升。

    通過(guò)準確的溫控技術(shù)、智能算法與工藝深度耦合,冷熱循環(huán)裝置為工業(yè)化放大提供了可靠的熱管理解決方案,在提升產(chǎn)品質(zhì)量、降低能耗及保障工藝安全方面具有顯著(zhù)優(yōu)勢。



    反應釜自動(dòng)化控制系統-高低溫循環(huán)系統






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